Retix.C Ultra Repair Nano-Mask EctoHyal Complex 3.0 1szt.
Opis produktu
Retix.C Ultra Repair Nano-Mask EctoHyal Complex 3.0
to preparat w formie profesjonalnej maski pozabiegowej.
Efekt drugiej skóry
Maska idealnie przylega do skóry tworząc wrażenie przedłużenia skóry.
Moc nawilżenia
Maska świetnie nawilża, koi i uspokaja skórę redukując zaczerwienienia. W składzie znajdziemy trzy formy kwasu hialuroowego oraz ektoiny - EctoHyal Complex 3.0.
Zastosowanie:
- silne nawilżenie,
- złagodzenie podrażnień,
- ukojenie skóry,
- redukcja zaczerwienień oraz uczucia ściągnięcia.
Obszary stosowania:
- twarz.
Skład:
- Ectohyal complex 3.0 - kompleks składników o działaniu nawilżającym:
- Kwas hialuronowy - działanie nawilżające i ujędrniające, składnik przywracający równowagę wodną organizmu,
- Ektoina - organiczny związek chemiczny powstał w procesie fermentacji; właściwości ochronne, przeciwzapalne i nawilżające; dzięki tworzeniu hydrokompleksów ektoinowych zapobiega wysuszaniu się skóry.
- Bisabolol - ekstrakt z rumianku lekarskiego o działaniu przeciwzapalnym, łagodzącym oraz pobudzającym naskórek do regeneracji.
Ingredients (INCI):
Aqua (Water), Glycerin, Propylene Glycol, Polyacrylate-13, Polyisobutene, Estoin, p-Anisic Acid, Chlorphenesin, Sodium Hyaluronate, Lactic Acid, Sodium Hydroxide, Bisabolol, Polysorbate 20, 0-Cymen-5-ol, Sorbitan Isostearate, Sodium Phytate, Ethylhexyl Palmitate, Alcohol, Trihydroxystearin.
Sposób użycia:
Aplikować na cała skórę twarzy po wykonanym zabiegu, tak by idealnie przylegała do skóry. Pozostawić na 20 minut, usunąć a następnie wmasować pozostałą część produktu.
Opakowanie:
- 1x15 ml.
UWAGA! Podana cena dotyczy jednej saszetki z maską z preparatem o pojemności 15ml.
Opakowanie zawiera osiem masek. W przypadku zakupu jednej maski, opakowanie przydzielane jest losowo.
Wyświetlane są wszystkie opinie (pozytywne i negatywne). Nie weryfikujemy, czy pochodzą one od klientów, którzy kupili dany produkt.