Retix.C Ultra Repair Nano-Mask EctoHyal Complex 3.0 1szt.

Retix.C Ultra Repair Nano-Mask EctoHyal Complex 3.0

to preparat w formie profesjonalnej maski pozabiegowej.

Efekt drugiej skóry

Maska idealnie przylega do skóry tworząc wrażenie przedłużenia skóry.

Moc nawilżenia

Maska świetnie nawilża, koi i uspokaja skórę redukując zaczerwienienia. W składzie znajdziemy trzy formy kwasu hialuroowego oraz ektoiny - EctoHyal Complex 3.0. 

Zastosowanie:

• silne nawilżenie
• złagodzenie podrażnień
• ukojenie skóry
• redukcja zaczerwienień oraz uczucia ściągnięcia

Obszary stosowania:

• twarz

Skład:

• Ectohyal complex 3.0 - kompleks składników o działaniu nawilżającym:
  • Kwas hialuronowy - działanie nawilżające i ujędrniające, składnik przywracający równowagę wodną organizmu
  • Ektoina - organiczny związek chemiczny powstał w procesie fermentacji; właściwości ochronne, przeciwzapalne i nawilżające; dzięki tworzeniu hydrokompleksów ektoinowych zapobiega wysuszaniu się skóry
• Bisabolol - ekstrakt z rumianku lekarskiego o działaniu przeciwzapalnym, łagodzącym oraz pobudzającym naskórek do regeneracji

Ingredients (INCI):

Aqua (Water), Glycerin, Propylene Glycol, Polyacrylate-13, Polyisobutene, Estoin, p-Anisic Acid, Chlorphenesin, Sodium Hyaluronate, Lactic Acid, Sodium Hydroxide, Bisabolol, Polysorbate 20, 0-Cymen-5-ol, Sorbitan Isostearate, Sodium Phytate, Ethylhexyl Palmitate, Alcohol, Trihydroxystearin.

Sposób użycia:

• Aplikować na cała skórę twarzy po wykonanym zabiegu, tak by idealnie przylegała do skóry.
• Pozostawić na 20 minut, usunąć a następnie wmasować pozostałą część produktu. 

Opakowanie:

• 1x15 ml

UWAGA! Podana cena dotyczy jednej saszetki z maską z preparatem o pojemności 15ml.

Opakowanie zawiera osiem masek. W przypadku zakupu jednej maski, opakowanie przydzielane jest losowo.